XUV

XUV? 系列設備的真空測量室能夠通過 X 射線熒光分析 (RFA) 檢測原子序數從Na（11）開始的輕元素。由于空氣會吸收輕元素的熒光X射線，因此在大氣環(huán)境中通常無法使用該方法。因此，該儀器非常適合對要求嚴苛的鍍層厚度進行測量和材料分析。

特性：

• 檢出限低、重復精度高，以及測量適用性廣，因此特別適用于研究和開發(fā)使用

• 配備真空測量室和高性能硅漂移探測器，能夠實現精確測量，尤其是對輕元素的測試

• 通過可編程 X、Y 和 Z 軸進行自動測試

• 準直器和濾波器可切換，因此可適用于各種材料和測試條件

應用：

涂層厚度測量

• 原子序數從Na（11）開始的輕元素鍍層，可測量厚度低至納米級

• 鋁鍍層和硅鍍層

材料分析

• 測定寶石的真?zhèn)闻c原產地

• 常規(guī)材料分析和取證

• 高分辨率痕量分析